阿斯麦(ASML.US)光刻机迈向“high-NA ”时代! 台积电与三星即将采购新款EUV

作者: 智通财经 卢梭 2024-06-05 19:02:28
光刻机巨头阿斯麦(ASML.US)即将向全球最大规模芯片制造商以及三星电子(Samsung Electronics)交付最新款的顶尖芯片制造设备。

智通财经APP获悉,总部位于荷兰的光刻机巨头阿斯麦(ASML.US)即将向全球最大规模芯片制造商(TSM.US)以及三星电子(Samsung Electronics)交付最新款的顶尖芯片制造设备。据阿斯麦发言人最新透露,阿斯麦首席财务官Roger Dassen在最近的一次电话会议上对分析师表示,为阿斯麦贡献巨额营收的前三大客户——即台积电、英特尔以及三星电子,即将在今年年底之前获得阿斯麦最新推出的high-NA EUV光刻机。

据了解,英特尔已经订购了阿斯麦这一新款EUV光刻机,并且阿斯麦已经于2023年12月底将全球第一台high-NA EUV光刻机运往英特尔位于俄勒冈州的一家大型芯片制造工厂。

目前尚不清楚阿斯麦最大规模的EUV光刻机客户台积电何时将正式收到这些设备,这家全球最顶级芯片制造商的一名代表表示,该公司按照计划与半导体设备供应商密切合作,并拒绝展开进一步置评。

值得注意的是,此前在5月中旬,台积电高级副总裁Kevin Zhang曾表示,阿斯麦最新型的先进芯片制造光刻机器的价格令人望而却步。“这台EUV光刻机成本非常高。”他指的是阿斯麦最新推出的“high-NA”级别极紫外(EUV)光刻机。

“我喜欢high-NA EUV的性能,但是我确实不喜欢它的标价。使用新的阿斯麦技术将取决于它在哪个层面最具经济意义以及我们能够实现的技术平衡。”Kevin Zhang当时在阿姆斯特丹的一个技术研讨会上表示。不过他拒绝就台积电可能何时开始向阿斯麦订购新推出的high-NA EUV进行置评。

在阿斯麦发言人透露的消息刺激之下,在荷兰阿姆斯特丹股市,阿斯麦股价一度上涨3.5%,至903.70欧元。该公司股价今年迄今在荷兰已上涨约33%。在美股盘前交易中,阿斯麦股价一度涨超4%。

high-NA EUV,对于2nm及以下制程至关重要

阿斯麦的这一款“high-NA”级别极紫外(EUV)光刻机系统,可以用仅仅8纳米厚的线条来压印半导体——比上一代EUV机器要小足足1.7倍,在阿斯麦的设想中,这一款全新EUV在未来将用于生产为ChatGPT等人工智能应用和AI智能手机登最先进消费电子产品提供强大驱动力的高性能先进制程芯片。

然而,这一堪称“人类科技最巅峰”的芯片制造机器每台购买成本高达惊人的3.5亿欧元(大约3.8亿美元),重量则相当于两架空客飞机A320。

来自荷兰的阿斯麦是全球最大规模光刻系统制造商,阿斯麦所生产的光刻设备在制造芯片的过程中可谓起着最重要作用。阿斯麦是台积电、三星以及英特尔用于制造高端制程芯片的最先进极紫外(EUV)光刻机的唯一供应商。

如果说芯片是现代人类工业的“掌上明珠”,那么光刻机就是将这颗“明珠”生产出来所必须具备的工具,更重要的是,阿斯麦是全球芯片厂制造最先进制程的芯片,比如3nm、5nm以及7nm芯片所需EUV光刻设备的全球唯一一家供应商。因此,台积电、英特尔以及三星等最大规模客户对其产品的需求,可谓是芯片行业健康状况的风向标。

英特尔耗巨资购买这一设备的核心目的在于,力争早日实现2nm及以下最先进芯片制程路线——即英特尔所规划的 18A、14A 和 10A 这些最先进芯片制程技术路线。“18A”等芯片制造类别,既指英特尔规划的1.8nm级别芯片,也指英特尔所规划的3D chiplet先进封装工艺路线图。

对于英特尔以及台积电正在研发的2nm及以下节点制造技术而言,阿斯麦high-NA EUV光刻机可谓非常重要。相比于阿斯麦当前生产的标准款EUV光刻机,主要区别在于使用了更大的数值孔径,high-NA EUV技术采用0.55 NA镜头,能够实现8nm级别的分辨率,而标准的EUV技术使用0.33 NA的镜头。

因此,这种新NA技术能够在晶片上打印更小的特征尺寸,对于2nm及以下芯片的制程技术研发至关重要,而对于英伟达AI GPU等用于AI训练/推理领域的超高性能AI加速器而言,2nm及以下制程对于AI系统算力提升至关重要。目前英伟达H100/H200 AI GPU集中采用台积电4nm制程工艺,全新推出的Blackwell架构AI GPU则将采用台积电3nm制程工艺。

台积电高管直呼这款新光刻机太贵

台积电此前对这款新型EUV的价格表示担忧。台积电台积电高级副总裁Kevin Zhang5月在阿姆斯特丹直呼high-NA EUV价格太高,他在当时还表示,台积电所谓的A16芯片节点技术(业内普遍认为是1.6nm芯片制程工艺)将于2026年底推出,届时有可能不需要用到阿斯麦新推出的high-NA EUV,可以继续依赖台积电一些旧款的EUV光刻设备。“我认为在这一点上,我们现有的EUV能力应该能够支持新的工艺,”Kevin Zhang表示。

尽管如此,台积电一直是阿斯麦high-NA EUV项目的积极参与力量。包括Janardan Menon在内的来自杰富瑞(Jefferies)的分析师们表示,他们预计台积电将于2028年在A14这一制造节点上使用high-NA EUV。该机构的分析师们在与阿斯麦首席财务官Dassen进行的电话会议后表示,阿斯麦仍然认为2025年总营收规模可能处于展望区间的上半部分。

杰富瑞的分析师们预计,在今年剩下的三个季度里,阿斯麦的平均光刻机订单规模可能将在57亿欧元左右,阿斯麦管理层对于第二季度的营收展望区间则是57亿-62亿欧元,并且杰富瑞的分析师们预计阿斯麦2025年的总计营收规模达到400亿欧元。

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