智通财经APP获悉,国联证券发布研究报告称,南大光电(300346.SZ)ArF光刻胶再获客户认证,国产替代助力公司持续成长。维持公司21-23年净利预测1.42、1.59、1.75亿元,维持“增持”评级。
国联证券指出,公司于5月31日晚间发布公告,控股子公司宁波南大光电自主研发的ArF光刻胶继2020年12月在一家存储芯片制造企业的50nm闪存平台上通过认证后,近日又在逻辑芯片制造企业55nm技术节点的产品上取得了认证突破,表明公司光刻胶产品已具备55nm平台后段金属布线层的工艺要求。
国联证券主要观点如下:
事件:公司于5月31日晚间发布公告,控股子公司宁波南大光电自主研发的ArF光刻胶继2020年12月在一家存储芯片制造企业的50nm闪存平台上通过认证后,近日又在逻辑芯片制造企业55nm技术节点的产品上取得了认证突破,表明公司光刻胶产品已具备55nm平台后段金属布线层的工艺要求。
ArF光刻胶再获认证,关键半导体材料实现突破
半导体光刻胶目前国内自给率极低,供给端基本被日美企业垄断,行业前五市占率达87%。其中g线/i线光刻胶自给率约为20%,KrF光刻胶自给率不足5%,而ArF光刻胶完全依赖进口,对我国芯片制造形成“卡脖子”风险。公司继去年12月通过50nm闪存平台认证通过后,近日又再次获得55nm逻辑电路平台认证,成为国内通过产品验证的第一只国产ArF光刻胶,打破了国内先进光刻胶受制于人的局面。公司目前已完成两条光刻胶生产线的建设,预计未来光刻胶年产能达25吨(干式5吨和浸没式20吨)。
日本光刻胶停产断供,国产替代需求迫在眉睫
供给端近日日本福岛7.3级地震导致光刻胶龙头信越化学停止供货部分晶圆厂光刻胶,在产线受到影响和晶圆厂扩产等多方因素下,信越化学已向中国大陆多家一线晶圆厂限制供货光刻胶,且已通知更小规模晶圆厂停止供货光刻胶。需求方面国内中芯国际、华虹宏力、广州粤芯等多家国内晶圆厂也在积极扩产,国内光刻胶需求量远大于国产产量且差额连年增长,尤其在ArF、高端KrF等半导体光刻胶方面,国产替代需求迫切。
风险提示:公司研发与量产进度不及预期,下游客户需求不达预期。