直击调研 | 中微公司(688012.SH)：刻蚀设备在国内占有率不断提升 预计可覆盖大约75%MOCVD设备市场

智通财经APP获悉，中微公司(688012.SH)在近期接受调研时表示，公司积极关注下游市场扩产计划并努力争取各种可能的市场机会，公司的刻蚀设备在国内主要客户端市场占有率不断提升。中微公司(688012.SH)表示，市场机构预测到2026年，全球每年需求超过800台MOCVD设备。公司预计可以覆盖大约75%的MOCVD设备市场，未来市场空间非常广阔。目前公司产品有部分零部件需要进口，公司采取多厂商策略保障零部件及时供应。

公司2022年第一季度业绩情况

据中微公司披露的业绩信息显示，公司本期营业收入9.49亿元，较上年同期增加约3.46亿元，同比增长57.31%，主要系：(1)受益于半导体设备市场发展及公司产品竞争优势，本报告期刻蚀设备收入为7.14亿元，较上年同期增长约105.03%;(2)由于公司新签署的Mini LED MOCVD设备规模订单在本期尚未确认收入，MOCVD设备本期收入为0.42亿元，较上年同期下降约68.59%。

本期归属于上市公司股东的扣除非经常性损益的净利润为1.86亿元，较上年同期的0.11亿元增加1.75亿元，同比增长1,578.18%。主要系本期营业收入较上年同期增加3.46亿元，同时本期毛利率从去年的40.92%增长至45.47%，增加4.55个百分点，本期毛利较上年同期增加约1.85亿元。

刻蚀设备在国内主要客户端市场占有率不断提升

调研会上中微公司透露，2021年公司刻蚀设备收入20亿元，同比提升55.4%。随着国际上先进芯片制程从14纳米到10纳米阶段向7纳米、5纳米及更先进工艺的方向发展，当前光刻机受光波长的限制，需要结合刻蚀和薄膜设备，采用多重模板工艺，利用刻蚀工艺实现更小的尺寸，使得刻蚀技术及相关设备的重要性进一步提升。

中微公司表示，公司的刻蚀设备在国内主要客户端市场占有率不断提升，在逻辑集成电路制造环节，公司开发的12英寸高端刻蚀设备已运用在国际知名客户65纳米到5纳米等先进的芯片生产线上;同时，公司根据先进集成电路厂商的需求，已开发出小于5纳米刻蚀设备用于若干关键步骤的加工，并已获得行业领先客户的批量订单。公司目前正在配合客户需求，开发新一代刻蚀设备和包括更先进大马士革在内的刻蚀工艺，能够涵盖5纳米以下更多刻蚀需求和更多不同关键应用的设备。

在3D NAND芯片制造环节，公司的电容性等离子体刻蚀设备可应用于64层和128层的量产，同时公司根据存储器厂商的需求正在开发新一代能够涵盖128层及以上关键刻蚀应用以及相对应的极高深宽比的刻蚀设备和工艺。此外，公司的电感性等离子刻蚀设备已经在多个逻辑芯片和存储芯片厂商的生产线上量产，根据客户的技术发展需求，正在进行下一代产品的技术研发，以满足5纳米以下的逻辑芯片、1X纳米的DRAM芯片和128层以上的3D NAND芯片等产品的ICP刻蚀需求，并进行高产出的ICP刻蚀设备的研发。

根据机构统计数字，2021年ICP市场大概是90-100亿美元左右。中微的刻蚀团队拥有丰富的ICP设备开发经验。公司的ICP产品进入市场后，付运机台数量增长迅速，2021年ICP设备交付134腔，同比增长235%。公司的ICP设备用了很多的差异化设计，并且有双台机和单台机两种配置可供客户选择，在高端配置上能满足客户需求。

预计可以覆盖大约75%的MOCVD设备市场,未来市场空间非常广阔

中微公司在调研会上表示，MOCVD设备目前在照明、显示市场应用广泛。更重要的是Mini LED和Micro LED市场的拓展，相关市场的发展前景很大。市场机构预测到2026年，全球每年需求超过800台MOCVD设备。公司预计可以覆盖大约75%的MOCVD设备市场。未来市场空间非常广阔。

有投资者提问到MOCVD毛利率提升幅度大的原因,中微公司回应称新的产品型号Prismo UniMax™主要针对Mini-LED设计。性能、复杂性提高很多，提供更多的价值给用户，所以毛利率有明显增长。

中微公司表示，公司核心技术人员及团队稳定。公司近几年研发人员持续增长，2021年研发人员同比2020年增长约20%，目前研发人员数量占公司总人数比约为40%。目前已经组建团队在开发LPCVD设备和EPI设备，研发进展按计划进行中，同时公司将在适当时机通过并购等外延式成长途径扩大产品和市场覆盖。

中微公司在调研会上提到，公司目前刻蚀设备的零部件国产化率大约60%，MOCVD设备的零部件国产化率大约80%。海外供应链压力较大，在被问到公司核心原材料或核心零部件的进口情况时公司表示，目前公司产品有部分零部件需要进口，公司采取多厂商策略保障零部件及时供应。